特許

J-GLOBAL ID：200903004511458618

日射遮蔽膜およびその製造方法

発明者： 高橋 伸子
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-100432
公開番号（公開出願番号）：特開平11-276992
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 比較的低温度の膜形成でも透明で、且つ優れた日射遮蔽膜の製造方法を提供する。特に、大面積の塗布形成が可能であり、量産性・コスト面で優れた日射遮蔽膜とその製造方法を提供する。【解決手段】 無機微粒子を含有する溶液を基体上に塗布し、この塗布膜に活性エネルギー線を照射して日射遮蔽膜を製造する。前記無機微粒子は、粒子径1nm〜500nmの酸化物微粒子、例えば、インジウム錫酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、酸化チタン微粒子および酸化セリウムから選ばれた1種類以上である。活性エネルギー線には、赤外線、可視光線、紫外線、X線等の電磁波光線や電子線、イオンビーム、中性子線、α線等の粒子線等が用いられる。

請求項（抜粋）：

無機微粒子を含有する溶液を基体上に塗布し、この塗布膜に活性エネルギー線を照射することを特徴とする日射遮蔽膜の製造方法。

IPC (4件)：

B05D 7/24 303 ,  B05D 3/06 101 ,  B05D 3/06 102 ,  C08J 7/00 304

FI (4件)：

B05D 7/24 303 B ,  B05D 3/06 101 Z ,  B05D 3/06 102 Z ,  C08J 7/00 304