特許

J-GLOBAL ID：200903004519831806

積層構造薄膜の作製装置及び運動導入器

発明者： 枇榔 竜二 ,  鈴木 康之 ,  安藤 謙二
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-340757
公開番号（公開出願番号）：特開平6-184741
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月05日
要約：

【要約】【目的】 真空チャンバーからの放出ガスや他のターゲットからのスパッタ粒子等が不純物として膜中に混入するのを防ぎ、また真空チャンバー内での基板の位置制御の自由度を増加させる。【構成】 マグネトロンスパッタ電極を装着するスパッタ源を複数、旋回手段の回転軸の回りに平行に配置し、電極の一つにスパッタ電力を印加するとともに、他の電極を接地する。また、真空装置の運動導入器として、回転、直線及び揺動の各運動可能な部材を構成するとともに、前記直線運動を基板の保持動作に変換するチャッキング機構を構成する。

請求項（抜粋）：

金属製の真空容器と、該容器内に配置されている、マグネトロンスパッタ電極を装着する複数のスパッタ源と、被着用の基板を保持する基板ホルダーとを装備し、前記マグネトロンスパッタ電極上のターゲット材を選択的にマグネトロンスパッタリングさせて前記基板上に薄膜を積層形成する積層構造薄膜作製装置において、前記マグネトロンスパッタ電極を装着する複数のスパッタ源が、旋回可能な旋回手段の回転軸の回りに平行に配置され、上記複数の電極のうち少なくとも一つにスパッタ電力を印加し、放電電力を印加しない電極は接地可能な機構を有することを特徴とする積層構造薄膜作製装置。

IPC (2件)：

C23C 14/35 ,  H01L 21/203