特許
J-GLOBAL ID：200903004520080750

金属水銀酸化用触媒及び金属水銀酸化用触媒を備えた排ガス浄化用触媒とその製造方法

発明者：
甲斐 啓一郎

甲斐 啓一郎 について

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加藤 泰良

加藤 泰良 について

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今田 尚美

今田 尚美 について


出願人/特許権者：
バブコック日立株式会社

バブコック日立株式会社 について


代理人 (1件)： 吉岡 宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-032803
公開番号（公開出願番号）：特開2007-209899
出願日： 2006年02月09日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
【課題】脱硝触媒が使用される高い温度域(350°C付近)においても、排ガス中のSO2酸化率を高めることなく、金属水銀の酸化率を高める。【解決手段】コロイダルシリカとバナジウム化合物との混合液を予めゲル化させ、得られたスラリ状物を、加熱混合後、乾燥及びまたは焼成することにより、ケイ素酸化物とバナジウム酸化物を主成分とし、Si/Vの原子比が99.5/0.5〜85/15の範囲内にある触媒を得る。この触媒を金属水銀酸化用触媒として、金属水銀を含む排ガスに接触させ、金属水銀を酸化させる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
排ガス中に含まれる金属水銀と、酸素或いは塩化水素とを酸化的に反応させる金属水銀酸化用触媒であって、ケイ素酸化物とバナジウム酸化物を主成分とし、Si/Vの原子比が99.5/0.5〜85/15の範囲内にある金属水銀酸化用触媒。
IPC (7件)：
B01J 23/22 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01J 37/03 ,  B01J 37/02 ,  B01J 23/30 ,  B01J 23/28
FI (7件)：
B01J23/22 A ,  B01D53/36 Z ,  B01D53/36 102C ,  B01J37/03 B ,  B01J37/02 301C ,  B01J23/30 A ,  B01J23/28 A
Fターム (42件)：
4D048AA06 ,  4D048AA16 ,  4D048AB02 ,  4D048AC04 ,  4D048AC10 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA23X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048CC46 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06B ,  4G169BC50B ,  4G169BC54A ,  4G169BC54B ,  4G169BC59B ,  4G169BC60B ,  4G169CA02 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA11 ,  4G169CA13 ,  4G169EA12 ,  4G169EA18 ,  4G169EA22 ,  4G169EB12Y ,  4G169EB15Y ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FA06 ,  4G169FB09 ,  4G169FB15 ,  4G169FC08
引用特許：
出願人引用 (2件)

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