特許
J-GLOBAL ID：200903004525298990
光学素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-124836
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333829
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】X線反射のコントラスト低下を防止した高解像度の反射型光学素子を実現することと、X線吸収体パタ-ンを有する光学素子の製造工程におけるパターン欠陥を修正することが容易で、歩留まり向上の図れる製造方法を実現することにある。【構成】基板1上のX線吸収体4と多層膜2の間に、X線吸収体4のエッチングに対してエッチング速度の遅い材質で多層膜2の保護膜となる中間膜3を設けたもの。X線吸収体4をパターン化してマスク4’を形成する際に、多層膜面をエッチング雰囲気に曝さずにX線吸収体4をエッチングし、X線反射部の反射率を損なうこと無くパタ-ン形成を行う。【効果】マスク上の広範囲領域で均一な反射率の反射面を提供し、また、集束イオンビ-ムによる修正も容易になるためマスク欠陥が低減し、半導体素子製造のリソグラフィ工程における歩留まり向上が可能なX線露光用マスクが得られる。
請求項（抜粋）：
基板上に、屈折率の異なる少なくとも2種類の物質の薄膜が交互に積層されたX線もしくは極紫外線を反射する多層膜と、前記多層膜上に配設された多層膜を保護する中間膜と、さらに前記中間膜上に配設されたX線もしくは極紫外線の吸収体パタ-ンとを有して成る光学素子。
IPC (2件)：
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