特許
J-GLOBAL ID:200903004526852258
フェノール類の除去方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-081379
公開番号(公開出願番号):特開2003-275534
出願日: 2002年03月22日
公開日(公表日): 2003年09月30日
要約:
【要約】【課題】 排ガス中のフェノール類を除去するに際し、フェノール類の除去率が十分に高く、保守管理が容易でランニングコストが低いフェノール類の除去方法を提供する。【解決手段】 本発明のフェノール類の除去方法は、フェノール類を含むガスと固体塩基とを接触させて、該ガス中に含まれるフェノール類を除去することを特徴とする。ガスと固体塩基との接触は、固体塩基の造粒物の充填層にガスを通す方法、または、ガスに固体塩基を散布する方法により行う。
請求項(抜粋):
フェノール類を含むガスと固体塩基とを接触させて、該フェノール類を該固体塩基に吸収させることを特徴とするフェノール類の除去方法。
IPC (4件):
B01D 53/14
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/72
, B01J 20/04
FI (4件):
B01D 53/14 A
, B01J 20/04 A
, B01D 53/34 120 D
, B01D 53/34 ZAB
Fターム (28件):
4D002AA40
, 4D002AC10
, 4D002BA03
, 4D002BA14
, 4D002CA07
, 4D002CA11
, 4D002DA02
, 4D002DA03
, 4D002DA16
, 4D002EA02
, 4D020AA10
, 4D020BA01
, 4D020BA09
, 4D020BA11
, 4D020BB01
, 4D020CA05
, 4D020CA08
, 4D020CD02
, 4D020DA03
, 4D020DB10
, 4G066AA11B
, 4G066AA43B
, 4G066BA09
, 4G066BA20
, 4G066CA52
, 4G066DA02
, 4G066FA26
, 4G066FA28
引用特許: