特許
J-GLOBAL ID:200903004526852258

フェノール類の除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-081379
公開番号(公開出願番号):特開2003-275534
出願日: 2002年03月22日
公開日(公表日): 2003年09月30日
要約:
【要約】【課題】 排ガス中のフェノール類を除去するに際し、フェノール類の除去率が十分に高く、保守管理が容易でランニングコストが低いフェノール類の除去方法を提供する。【解決手段】 本発明のフェノール類の除去方法は、フェノール類を含むガスと固体塩基とを接触させて、該ガス中に含まれるフェノール類を除去することを特徴とする。ガスと固体塩基との接触は、固体塩基の造粒物の充填層にガスを通す方法、または、ガスに固体塩基を散布する方法により行う。
請求項(抜粋):
フェノール類を含むガスと固体塩基とを接触させて、該フェノール類を該固体塩基に吸収させることを特徴とするフェノール類の除去方法。
IPC (4件):
B01D 53/14 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/72 ,  B01J 20/04
FI (4件):
B01D 53/14 A ,  B01J 20/04 A ,  B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB
Fターム (28件):
4D002AA40 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA14 ,  4D002CA07 ,  4D002CA11 ,  4D002DA02 ,  4D002DA03 ,  4D002DA16 ,  4D002EA02 ,  4D020AA10 ,  4D020BA01 ,  4D020BA09 ,  4D020BA11 ,  4D020BB01 ,  4D020CA05 ,  4D020CA08 ,  4D020CD02 ,  4D020DA03 ,  4D020DB10 ,  4G066AA11B ,  4G066AA43B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066CA52 ,  4G066DA02 ,  4G066FA26 ,  4G066FA28
引用特許:
審査官引用 (4件)
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