特許

J-GLOBAL ID：200903004531015267

スルホベタインの製造法

発明者： 太田 好美 ,  小倉 信之 ,  金子 洋平 ,  井上 勝久 ,  外谷 孝四郎
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275528
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058988
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 漂白活性化剤として有用なエステル基を有するフエニルスルホベタインを製造する方法を提供する。【構成】 下式(II)の化合物とスルホン化剤とを反応させて得られるスルホン化体を、50〜160°Cに加熱された下式(III)のアミンと接触させて、下式(I)のスルホベタインと下式(IV)の化合物との混合物を得、これらを分離して下式(I)のスルホベタインを得る。(上の式中、R1はC1〜20アルキル基もしくはアルケニル基、フェニル基、又はアルキル置換基の総炭素数が1〜20のアルキル置換アリール基、R2,R3はC1〜3アルキル基、R4はC1〜C10アルキレン基を示す。Aは-O-,-NHC(O)-,-C(O)NH-,C(O)-,-OC(O)-,-C(O)O-,YはC1〜10アルキレン基又は-B-(OB)n-基を示す。ここで、BはC2〜3アルキレン基、nは平均値が0〜10の数を示す。mは0又は1の数を示す。)

請求項（抜粋）：

下記の工程(a)〜(c)を行なうことを特徴とする一般式(I)で表わされるスルホベタインの製造法。【化1】〔式中、R1:直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基もしくはアルケニル基、フェニル基、又はアルキル置換基の総炭素数が1〜20のアルキル置換アリール基を示す。R2,R3:同一又は異なって、炭素数1〜3のアルキル基を示す。R4:分岐鎖を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。【化2】m :0又は1の数を示す。〕工程(a)下記一般式(II)で表わされる化合物と、SO3, XSO3H(式中X はハロゲン原子を示す)及びこれらの錯体から選ばれる少なくとも一種のスルホン化剤とを反応させ、スルホン化体を得る工程。【化3】(式中、R4, X は前記の意味を示す。)工程(b)工程(a) にて得られたスルホン化体と下記一般式(III)で表わされるアミンとを接触させることにより反応させ、前記一般式(I)で表わされるスルホベタインと下記一般式(IV)で表わされる化合物との混合物を得る工程。【化4】(式中、R1,R2,R3,A ,Y ,m は前記の意味を示す。)【化5】(式中、R1,R2,R3,A ,Y ,X ,m は前記の意味を示す。)工程(c)工程(b) で得られた混合物において、前記一般式(I)で表わされるスルホベタインと前記一般式(IV)で表わされる化合物とを分離することにより、一般式(I)で表わされるスルホベタインを得る工程。

IPC (3件)：

C07C309/42 ,  C07C303/22 ,  C11D 7/54