特許

J-GLOBAL ID：200903004535282960

静電チャック、処理装置および半導体装置の製造方法

発明者： 小松 久高 ,  山田 勝哉
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-020541
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210705
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ処理装置の静電チャックを、コンパクトで、かつ、着脱が容易な保守構造に形成すること。【解決手段】 静電チャック28の基体31には、吸着電極に接続しているチャック給電端子34a、34bに接続する給電端子39a、39bを案内する少なくとも一方が座ぐり孔35である2つの孔を形成する。

請求項（抜粋）：

所定形状をなす少なくとも2つの吸着用電極を有する基体と、前記基体に埋め込まれ一端側が前記各吸着用電極とそれぞれ接続され他端側が前記基体表面に露出するように設けられたチャック給電端子と、前記各チャック給電端子の他端側とそれぞれ接続し前記吸着用電極に電力を供給する給電端子と、前記各チャック給電端子のうち少なくとも1つのチャック給電端子の他端側は前記基体に設けられた座ぐり孔内で露出され、該チャック給電端子と対応する給電端子は座ぐり孔内に挿入された状態で前記チャック給電端子と接続されることを特徴とする静電チャック。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (10件)：

5F004BA20 ,  5F004BB22 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA18 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F045AA08 ,  5F045BB10 ,  5F045EM05