特許

J-GLOBAL ID：200903004542491729

流体加熱器

発明者： 門谷 皖一
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 橋爪 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-168738
公開番号（公開出願番号）：特開平5-231712
出願日： 1991年06月13日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】 輻射光によって被加熱流体を共振加熱する流体加熱器であって、半導体デバイスの製造工程におけるシリコン等のウエハーの洗浄液、エッチング液、レジスト剥離液の加熱および温度制御並びにフライヤーでの食品用油の加熱及び温度制御等、被加熱流体を流しながら、その加熱及び温度制御を好適に行える流体加熱器を提供すること。【構成】 管壁に流体の流入部及び流出部を有し、両端が開放された第1の中空管内部に、両端が開放された透明な第2の中空管を、前記第1の中空管の内壁との間に空間を有して配し、前記第2の中空管内部に、その内壁との間に空間を有して光源を配し、支持部材によって該光源の両端部を前記第2の中空管内部に支持する。

請求項（抜粋）：

電気ヒータ2の外周に流体加熱管1を配設し、さらにこの流体加熱管1の外周に内向き反射部材5を配設し、前記流体加熱管1は透明部材である構成を特徴とする流体加熱器。

IPC (4件)：

F24H 1/10 ,  F16L 53/00 ,  H05B 3/40 ,  H05B 3/44

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-116246
  
• 特開昭63-075439