特許
J-GLOBAL ID：200903004546945961
反射型マスクブランクス及び反射型マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-135671
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342734
出願日： 2003年05月14日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】反射多層膜上に残存しても反射率低下を最小限に抑えることができ、且つ、平滑性の良いバッファー層材料を提供する。【解決手段】基板1上に、露光光を反射する反射多層膜2と、露光光を吸収する吸収体層4とを備え、反射多層膜2と吸収体層4との間に、吸収体層4にパターンを形成する際に反射多層膜2を保護するためのバッファー層3を備え、該バッファー層3は、(a)Zr,Nb,Y,Mo,Laから選ばれる少なくとも1種の金属元素又はその金属元素を主成分とする材料(b)炭化珪素又はホウ化珪素或いはそれらを主成分とする材料の何れかの材料で形成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に形成された露光光を反射する反射多層膜と、該反射多層膜上に形成され、露光光を吸収する吸収体層とを備えた反射型マスクブランクスであって、
前記反射多層膜と前記吸収体層との間に、前記吸収体層にパターンを形成する際のエッチング環境に耐性を有するバッファー層を備えており、該バッファー層は、
(a)Zr,Nb,Y,Mo,Laから選ばれる少なくとも1種の金属元素又はその金属元素を主成分とする材料
(b)炭化珪素又はホウ化珪素或いはそれらを主成分とする材料
の何れかの材料で形成されていることを特徴とする反射型マスクブランクス。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F1/14
, G03F1/16
H01L21/30 531M
, G03F1/14 A
, G03F1/16 A
2H095BA01
, 2H095BA10
, 2H095BC26
, 5F046GD01
, 5F046GD04
, 5F046GD10
, 5F046GD16
