特許
J-GLOBAL ID：200903004564649610
カラーフィルターの画像セルパターン作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-043695
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241325
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】記録用媒体に記録された画像セルパターン描画用データから、垂直及び水平方向分割線V,Hによって分割される各分割領域のレチクルパターン描画用データをレチクルパターン描画用データとして設定する設定方式を改良し、フォトマスクの画像セルパターンに電子ビーム露光装置による分割露光による露光の繋ぎの痕跡が発生しないようにする。【構成】分割線V,Hを画像セルパターン1を構成する各単位セルパターン1a部分に掛からないように単位セルパターン1a間に位置決めして設定したレチクルパターン描画用データに基づきフォトマスク用基板面にレチクルパターンを順次分割描画露光するカラーフィルターの画像セルパターン作製方法。
請求項（抜粋）：
単位セルを行方向・列方向に多数規則的に配列したカラーフィルターの画像セルパターン描画用データを記録した描画用データ記録用媒体から垂直及び水平方向に矩形状に等分割、若しくは所定の間隔に分割して得られる分割画像セルパターン描画用データ毎にレチクルパターン描画用データとして順次に抜き出して、抜き出された前記レチクルパターン描画用データに基づき、順次に電子ビーム露光手段により、フォトマスク用基板面にレチクルパターンを描画露光し且つレチクルパターン描画露光後に該フォトマスク用基板をレチクルパターンの垂直又は水平行方向の分割間隔に相当する距離だけ移動させて、フォトマスク用基板面にレチクルパターンを順次分割描画露光することによりカラーフィルターの画像セルパターンを作製するカラーフィルターの画像セルパターン作製方法において、前記レチクルパターン描画用データに分割するための垂直及び水平分割線を、カラーフィルターの画像セルパターンの各単位セル部分に掛からないように、互いに対向配列する単位セルのほぼ中間に設定してレチクルパターン描画用データとして抜き出して、該レチクルパターン描画用データに基づきフォトマスク用基板面にレチクルパターンを順次分割描画露光することによりカラーフィルターの画像セルパターンを作製することを特徴とするカラーフィルターの画像セルパターン作製方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G02B 5/20 101
, H01L 21/027
