特許

J-GLOBAL ID：200903004565866576

シリカ微粒子、それが分散したシリカコロイド及びその製造方法

発明者： 鍬崎 尚哉 ,  片山 英孝 ,  青井 晴彦 ,  古川 信之
出願人/特許権者： 新日鐵化学株式会社
代理人 (3件)： 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣 ,  佐野 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-112610
公開番号（公開出願番号）：特開2004-315300
出願日： 2003年04月17日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】高純度のシングルナノサイズのシリカ粒子又はこれが分散したコロイドを提供するとともに、これから得られる有機-無機ハイブリッド材、低誘電率絶縁層を提供する。【解決手段】シリコン、酸素、水素及び炭素を除く全ての不純物元素の含有量が0.02ppm以下であり、且つ平均粒子径が1nm以上、10nm未満のシリカ微粒子又はそれが分散したシリカコロイドを、以下の▲1▼〜▲4▼の各条件を満足する条件で、シリコンアルコキシドを水、アルコール及びアンモニアの混合溶液に添加して加水分解・脱水縮合反応させて製造する。▲1▼加水分解反応時の混合溶液温度が、50°C〜アルコールの沸点以下。▲2▼混合溶液のアンモニア濃度が、0.05〜0.40モル/L。▲3▼水とシリコンアルコキシドのモル比が、2〜8モル。▲4▼シリコンアルコキシドの添加速度が、10cm3/min・L以下。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

シリコン、酸素、水素及び炭素を除く全ての不純物元素の含有量が0.02ppm以下であり、且つ平均粒子径が1nm以上、10nm未満のシリカ微粒子又はそれが分散したシリカコロイド。

IPC (6件)：

C01B33/18 ,  B01J13/00 ,  C01B33/141 ,  C01B33/145 ,  C08J5/00 ,  H01L21/316

FI (6件)：

C01B33/18 Z ,  B01J13/00 B ,  C01B33/141 ,  C01B33/145 ,  C08J5/00 ,  H01L21/316 G

Fターム (57件)：

4F071AA33 ,  4F071AA60 ,  4F071AB26 ,  4F071AE17 ,  4F071AF39 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4G065AA01 ,  4G065AA02 ,  4G065AA10 ,  4G065AB03X ,  4G065AB13X ,  4G065AB38X ,  4G065CA11 ,  4G065DA09 ,  4G065DA10 ,  4G065EA01 ,  4G065EA03 ,  4G065EA05 ,  4G065EA06 ,  4G065EA10 ,  4G065FA01 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC01 ,  4G072CC02 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072EE06 ,  4G072EE07 ,  4G072EE10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL14 ,  4G072LL15 ,  4G072LL17 ,  4G072MM01 ,  4G072PP01 ,  4G072PP14 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR05 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01 ,  4G072TT19 ,  4G072UU30 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BH04 ,  5F058BJ01