特許

J-GLOBAL ID：200903004567524044

マスク測定方法およびマスク

発明者： 高橋 克幸 ,  小林 賢一
出願人/特許権者： 株式会社ホロン
代理人 (1件)： 岡田 守弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-232999
公開番号（公開出願番号）：特開2007-049003
出願日： 2005年08月11日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】ステージに装着したマスクの位置をレーザ干渉計にて測定する従来の手法は、マスクの大型化、パターンの微細化が進むに伴い、ステージとマスクの間の固定機構や熱ドリフトなどの影響により測定に誤差を生じるおそれがある。【解決手段】 マスクの側面に反射面2を設けたマスクであり、レーザ干渉計4からのレーザ光を反射鏡ではなく直接マスク側面の反射面2に照射してその反射したレーザ光をもとにマスクの位置を測定すると共にマスクの歪や変形状態を検出するマスク測定方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ステージに装着したマスク上に形成した測定対象をレーザ干渉計で高精度に測定するマスク測定方法において、 前記マスクの側面に反射面を設け、レーザ干渉計からのレーザ光を当該反射面に照射してその反射したレーザ光をもとに前記マスクの位置を計測することを特徴とするマスク測定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14

FI (2件)：

H01L21/30 515F ,  G03F1/14 A

Fターム (5件)：

2H095BA01 ,  2H095BC28 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC16