特許

J-GLOBAL ID：200903004570458273

新規二酸化ケイ素

発明者： 親木 康高 ,  青木 恒人
出願人/特許権者： 塩野義製薬株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-338077
公開番号（公開出願番号）：特開平11-157827
出願日： 1997年11月21日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【解決手段】 細孔分布曲線において、細孔半径10nm以下にΔVp/ΔRp値(但し、Vpは細孔容積、Rpは細孔半径)の最大値を有し、そのΔVp/ΔRp値の最大値が100mm3/nm・g以上であり、かつ全細孔容積に対して細孔ピーク半径(ΔVp/ΔRpが最大値を示す細孔半径)±1nmの範囲に相当する細孔容積の割合が全細孔容積の20%以上である二酸化ケイ素。【効果】 本発明の二酸化ケイ素は、吸着剤、充填剤等として優れた性能を有する。

請求項（抜粋）：

細孔分布曲線において、細孔半径10nm以下にΔVp/ΔRp値(但し、Vpは細孔容積、Rpは細孔半径)の最大値を有し、そのΔVp/ΔRp値の最大値が100mm3/nm・g以上であり、かつ全細孔容積に対して細孔ピーク半径(ΔVp/ΔRpが最大値を示す細孔半径)±1nmの範囲に相当する細孔容積の割合が全細孔容積の20%以上である二酸化ケイ素。

IPC (6件)：

C01B 33/193 ,  B01J 21/08 ,  G01N 30/48 ,  B01J 20/10 ,  B01J 32/00 ,  C12H 1/04

FI (7件)：

C01B 33/193 ,  B01J 21/08 Z ,  G01N 30/48 E ,  G01N 30/48 K ,  B01J 20/10 A ,  B01J 32/00 ,  C12H 1/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高吸油性多孔質シリカ及びその製造方法並びに担体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-215650   出願人：塩野義製薬株式会社
• 二酸化ケイ素及びその製造方法並びにビールの安定化処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-153030   出願人：塩野義製薬株式会社, アサヒビール株式会社