特許

J-GLOBAL ID：200903004575240985

膜洗浄方法及び被処理液の処理方法

発明者： 大方 政信
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-261790
公開番号（公開出願番号）：特開2003-071256
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：

【要約】【課題】 局所的な曝気過不足を防止し、分離膜の膜面全体の均一洗浄を安定に維持することができる膜洗浄方法等を提供する。【解決手段】 処理装置10は、膜モジュール2及び散気装置70が設置された処理槽1の上方に、処理槽1内の被処理液L0の液面部Sの曝気状態を監視する監視装置5が設けられたものである。監視装置5で撮像された画像は、制御装置6へ出力され、画像の明暗処理によって気泡の有無が判別される。そして、この判別結果から散気ユニット7に対応する仮想領域単位での曝気量が取得され、これに基づいて曝気量の過不足があったときに曝気量の調整が行われる。その結果、局所的な曝気量の過少が適正化されて均一な膜洗浄を達成することができる。

請求項（抜粋）：

被処理液が供給される処理槽に浸漬された分離膜を曝気洗浄する膜洗浄方法であって、前記処理槽内の前記被処理液に前記分離膜を有する膜分離部の略下方から曝気する曝気工程と、前記曝気が行われている該被処理液の液面部における曝気状態を前記被処理液の外部から監視し、該液面部における曝気量及び/又は曝気量分布を取得する監視工程と、前記監視工程で取得した曝気量及び/又は曝気量分布に基づいて、前記膜分離部の一部叉は全部に対する曝気量を調整する調整工程と、を備える膜洗浄方法。

IPC (5件)：

B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/12 ,  G06T 1/00 300 ,  G06T 7/00 300

FI (5件)：

B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 F ,  C02F 3/12 S ,  G06T 1/00 300 ,  G06T 7/00 300 F

Fターム (47件)：

4D006GA02 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31A ,  4D006JA52A ,  4D006KC02 ,  4D006KC14 ,  4D006KE01Q ,  4D006KE30P ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB24 ,  4D006PC62 ,  4D028BC17 ,  4D028BD17 ,  5B057BA11 ,  5B057CA01 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA16 ,  5B057CB01 ,  5B057CB02 ,  5B057CB06 ,  5B057CB08 ,  5B057CB16 ,  5B057CE12 ,  5B057DA02 ,  5B057DA11 ,  5B057DB05 ,  5B057DB06 ,  5B057DB08 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5B057DC25 ,  5B057DC36 ,  5L096AA02 ,  5L096AA03 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096DA02 ,  5L096EA43 ,  5L096FA32 ,  5L096FA35 ,  5L096FA59 ,  5L096GA40 ,  5L096GA41 ,  5L096GA51