特許

J-GLOBAL ID：200903004577952206

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 上西 一也 ,  百田 淳 ,  青合 利明 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-029872
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220749
出願日： 1995年02月17日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 高解像力でマスク寸法を正確に再現でき、広い現像ラチチュードを有し、耐熱性に優れしかも膜厚依存性が小さいポジ型フォトレジストを提供する。【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5(及び/又は-4)-スルホン酸エステル化合物、(C)特定の酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物および(D)光酸発生剤を、前記成分(B)および成分(C)の配合割合が、5≦〔B+C〕≦70(wt%)......全固形分に対するwt%、かつ30≦100B/(B+C)≦95(wt%)の関係式を満足するように含むポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5(及び/又は-4)-スルホン酸エステル化合物、(C)酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物、酸分解性基:第3級アルキルエステル基、第3級アルキルカーボネート基、クミルエステル基、テトラヒドロピラニルエーテル基、(D)光酸発生剤、を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501

FI (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501