特許

J-GLOBAL ID：200903004586060717

露光装置

発明者： 野元 誠
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-320152
公開番号（公開出願番号）：特開2001-143987
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 大量の不活性ガス消費によるコストアップを招くことなく光学部材のケミカル汚染を防止する。【解決手段】 露光装置において、エア8から不活性ガス9を取り出す不活性ガス生成手段11と、基板3に照射される照明光L1の光路に不活性ガス生成手段から不活性ガスを供給する不活性ガス供給ライン12とを設ける。

請求項（抜粋）：

エアから不活性ガスを取り出す手段と、取り出された不活性ガスを基板に照射される照明光の光路に供給する不活性ガス供給ラインとを有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (6件)：

5F046AA22 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27