特許
J-GLOBAL ID:200903004598093262
多段階触媒再生を含むスラリー炭化水素合成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
河備 健二
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-548198
公開番号(公開出願番号):特表2002-500687
出願日: 1998年04月29日
公開日(公表日): 2002年01月08日
要約:
【要約】炭化水素合成スラリー中の可逆的に失活した炭化水素合成触媒を、スラリー反応器の外部の少なくとも2つの再生段階に該スラリーを逐次的に通すことによって再生する。該再生段階のそれぞれには、再生域と、それに続くオフガス除去域とが含まれる。この処理は、反応器の外部のリフトパイプを用いて行われる。このリフトパイプに、反応器からスラリーを送入し、触媒再生ガスと接触させて触媒粒子を部分的に再生するとともに再生オフガスを形成する。このガスとスラリーとの混合物を容器に送入し、その中で、スラリーからガスを除去する。再生ガスを容器内のスラリー中にバブリングすることにより更に触媒の再生を行う。ガス除去ダウンカマーは、反応器に戻る前に容器内のスラリーからガスを除去する。再生ガスはまた、リフトパイプ中においてリフトガスとしても作用する。
請求項(抜粋):
スラリー炭化水素合成方法の生成物を含む炭化水素スラリー液中に該触媒粒子と気泡とを含み、また該生成物は炭化水素合成反応条件下で液体であるスラリー中の、可逆的に失活した粒状炭化水素合成触媒を再生するための方法であって、該方法は、該スラリーをスラリー反応器の外部の少なくとも2つの触媒再生段階に逐次的に通し、該段階はそれぞれ下記域(i)および(ii)を含むことを特徴とする触媒の再生方法。(i)該スラリーを触媒再生ガスと接触させて該粒子を少なくとも部分的に再生し、再生済触媒スラリーと再生オフガスとを形成してなるスラリーを調製する再生域(ii)該オフガスを該再生済スラリーから除去するオフガス遊離域
IPC (6件):
C10G 2/00
, B01J 8/22
, B01J 23/94
, B01J 38/10
, C07B 61/00 300
, C07C 1/04
FI (6件):
C10G 2/00
, B01J 8/22
, B01J 23/94 M
, B01J 38/10 C
, C07B 61/00 300
, C07C 1/04
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