特許

J-GLOBAL ID：200903004606047879

マイクロ波励起プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： 山内 健資 ,  青木 克明
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-351431
公開番号（公開出願番号）：特開2000-174003
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】 剥離物の生成を抑制することが可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 導波管の端部側に設けられる天板30までマイクロ波を伝播し、この天板30に形成されたマイクロ波導入口からマイクロ波を反応容器21内部に向かい放射し、媒質ガスをプラズマ化して被処理基板22をプラズマ処理するマイクロ波励起プラズマ処理装置20において、反応容器21の上端開口を気密に閉塞すると共に、マイクロ波を透過し、かつマイクロ波の内部での進行をガイドする誘電体窓37と、誘電体窓37よりも天板30側であってスロットアンテナ32に対応して設けられ、スロットアンテナ32から放射されたマイクロ波を導入し、H面方向への進行を規制する誘電部材33と、を具備することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

導波管によりマイクロ波をマイクロ波導入口まで伝播し、このマイクロ波導入口から誘電体窓を介してマイクロ波を反応容器内部に導入し、前記反応容器内部に供給された媒質ガスをプラズマ化して被処理基板をプラズマ処理するマイクロ波励起プラズマ処理装置において、上記誘電体窓内を伝播するマイクロ波の伝播方向を制御する伝播方向制御手段を具備することを特徴とするマイクロ波励起プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H05H 1/46 B

Fターム (18件)：

5F004AA16 ,  5F004BA16 ,  5F004BB11 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BC08 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA15 ,  5F004DA16 ,  5F004DA17 ,  5F004DA18 ,  5F004DA19 ,  5F004DA20 ,  5F004DB00 ,  5F004DB09 ,  5F004DB16