特許
J-GLOBAL ID：200903004606327081
安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムから得られた耐衝撃性芳香族ビニルポリマー
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
越場 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266804
公開番号（公開出願番号）：特開平11-147912
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 芳香族ビニルポリマーのマトリクスとゴム粒子とを含む組成物の製造方法。耐衝撃性芳香族ビニルポリマーの光沢度を高める目的で「サラミ」形態以外の形態、例えば「迷路」「オニオン」または「カプセル」の形態を得ることができる。【解決方法】 エラストマーを安定な遊離ラジカル、エラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができる遊離ラジカル開始剤および溶媒の存在下且つ芳香族ビニルモノマーの非存在下で熱処理する段階を含む、一つのゴム鎖当たり平均0.1〜10の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムを製造し、このゴムを用いて組成物を製造する。
請求項（抜粋）：
エラストマーを安定な遊離ラジカル、エラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができる遊離ラジカル開始剤および溶媒の存在下且つ芳香族ビニルモノマーの非存在下で熱処理する段階を含む、一つのゴム鎖当たり平均0.1〜10の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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