特許

J-GLOBAL ID：200903004606522348

遠紫外線露光用ネガ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154644
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344807
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線露光用、中でもArFエキシマレーザー光源用として好適なネガ型フォトレジスト組成物であって、感度及び解像力が向上し、更に得られるレジストパターンプロファイルに優れたものを提供することである。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造の繰り返し単位と脂環式構造を有する特定の構造の繰り返し単位を含有する共重合体を含有する遠紫外線露光用ネガ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び下記一般式〔I〕で表される繰り返し単位と下記一般式〔II〕で表される繰り返し単位を含有する共重合体を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ネガ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、Zは単結合、酸素原子又は硫黄原子を示す。R3は、-A-R10で示される基を表す。R10は脂肪族環状炭化水素基、又は置換脂肪族環状炭化水素基を表す。Aは単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の置換基を組み合わせた2価の基を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R