特許
J-GLOBAL ID：200903004608573900
低土被り部のシールド掘進防護方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
一色 健輔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-321368
公開番号（公開出願番号）：特開平11-152986
出願日： 1997年11月21日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【課題】 交通渋滞を引き起こすことなしに、シールドトンネル周辺地盤の緩みを防止し、また地下埋設物に損傷を与えることのない低土被り部のシールド掘進防護方法を提供する。【解決手段】 地盤2の緩みを防止すべき低土被り区間Aのシールド掘進を行うに際し、低土被り区間Aの両側に立坑6,7を築造し、両立坑間にシールドトンネル3直上に位置することとなるように推進工法によりパイプルーフ9を設け、上側を防護した後で、下側をシールド掘進する。
請求項（抜粋）：
地盤の緩みを防止すべき低土被り区間のシールド掘進を行うに際し、低土被り区間の両側に立坑を築造し、両立坑間にシールドトンネル直上に位置することとなるように推進工法によりパイプルーフを設置し、しかる後にかかるパイプルーフによって覆われた下方地盤中にシールド掘進機を通過させることを特徴とする低土被り部のシールド掘進防護方法。
IPC (2件)：
E21D 9/04
, E21D 9/06 301
E21D 9/04 F
, E21D 9/06 301 Z
