特許
J-GLOBAL ID:200903004610619925
多孔質ガラスおよびガラス粉末の製造方法ならびに前記方法を実施するためのガラス材料
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-555628
公開番号(公開出願番号):特表2009-527443
出願日: 2006年02月24日
公開日(公表日): 2009年07月30日
要約:
本発明は、アルカリ硼珪酸塩ガラス材料に対して部分的バイコールプロセスを使用する、多孔質ガラスおよびガラス粉末の製造方法に関する。該方法は、0.05から15質量%の可変割合の金属酸化物および/または希土類金属酸化物の添加が、バイコールプロセスの過程でアルカリ硼珪酸塩ガラス材料に対して実施され、金属酸化物および/または希土類金属酸化物の生成するSiO2マトリックス中へのドープ挿入が起きて、多孔質ガラスの光学的屈折率の増加がバイコールプロセス中においてもたらされ、対向噴流粉砕法が、次の乾式粉砕プロセスでセラミック製分級機と組み合わせて使用され、15μm未満の粒径範囲を有する製造された多孔質ガラス粒子の分級が実施されることを特徴とする。多孔質ガラス材料は、以下の可変的な質量割合を有する金属酸化物およびランタニド酸化物の材料組成における可調光学的屈折率比を有するSiO2-B2O3-Na2Oの3元系混合物:0.001〜0.1質量%のFe2O3、0.01〜0.2質量%のMgO、0.05〜15質量%のZrO2、0.5〜15質量%のLa2O3、0.5〜15質量%のWO3、0.5〜15質量%のTiO2を特徴とする。
請求項(抜粋):
アルカリ硼珪酸塩ガラス材料を用いて多孔質ガラスおよびガラス粉末を部分的バイコールプロセスにより製造する方法であって、浸透構造における低溶解度を有するSiO2相および高溶解度を有する硼酸塩含有混合相への相分離が実施され、次いで多孔質SiO2マトリックスの形成下、その混合相を抽出し、多孔質ガラス粒子を生成するために引き続き乾式粉砕し、
バイコールプロセスの過程で、0.05〜15質量%の変動する割合の金属酸化物および/または希土類酸化物(酸化ランタン)の各々が、アルカリ硼珪酸塩ガラス材料に添加され、該金属酸化物および/または希土類酸化物のSiO2マトリックスへのドープ挿入が起きて、それにより多孔質ガラスの光学屈折率の増加がバイコールプロセス中においてもたらされ、
次の乾式粉砕プロセスにおいて、セラミック製分離ホイールを用いる対向噴流粉砕法が使用され、15μm未満の粒径範囲の生成した多孔質ガラス粒子の分級が実施される、
ことを特徴とする上記製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (61件):
4C052AA17
, 4C052HH01
, 4G062AA10
, 4G062AA13
, 4G062BB05
, 4G062DA06
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, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM15
, 4G062NN02
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