特許
J-GLOBAL ID：200903004628954080
蛍石とそれを用いた光学系及び露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066864
公開番号（公開出願番号）：特開平9-255328
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 短波長で高出力の光を長期間繰り返し照射した場合であっても、透過率特性が劣化し難い蛍石、それよりなる光学部品及び該光学部品を用いたフォトリソグラフィー用の露光装置を提供すること。【解決手段】 本発明の蛍石は、135nmの波長の光に対する内部透過率が70%以上であることを特徴とする。本発明の蛍石は、ストロンチウムを含む蛍石であって、ストロンチウムの含有量が1ppm以上600ppm以下であることを特徴とする。本発明のエキシマレーザー用の光学系は、前記蛍石又は前記ストロンチウムを含む蛍石からなるレンズを有する。本発明のフォトリソグラフィー用の露光装置は、前記蛍石からなるレンズを有する光学系と、露光される基板を保持するステージとを備えている。フォトリソグラフィー用の露光装置は、前記ストロンチウムを含む蛍石からなるレンズを有する光学系と、露光される基板を保持するステージとを備えている。
請求項（抜粋）：
135nmの波長の光に対する内部透過率が70%以上であることを特徴とする蛍石。
IPC (4件)：
C01F 11/22
, C30B 29/12
, G03F 7/20 505
, H01S 3/00
C01F 11/22
, C30B 29/12
, G03F 7/20 505
, H01S 3/00 Z
