特許
J-GLOBAL ID：200903004630593116

パターン検査装置、及び、パターン検査方法

発明者：
村上 進午

村上 進午 について

, 
松村 謙一

松村 謙一 について

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梅田 卓生

梅田 卓生 について

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斉藤 康子

斉藤 康子 について


出願人/特許権者：
アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社

アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 について


代理人 (2件)： 松山 允之 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-297856
公開番号（公開出願番号）：特開2008-165198
出願日： 2007年11月16日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】被検査試料のパターン検査の精度を高めること。【解決手段】被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、 前記光学画像取得部にて取得された光学画像に対して、被検査試料パターンの設計データから生成される参照画像を用いた補正処理を含むアライメント処理を行うアライメント処理部と、 アライメント処理部で補正処理された光学画像と基準画像とを比較処理する比較処理部と、を備えるパターン検査装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08 ,  G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F1/08 S ,  G01N21/956 A ,  G01B11/24 K ,  H01L21/30 502P
Fターム (36件)：
2F065AA03 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065EE08 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ24 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR08 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BB03 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051DA09 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB09 ,  2H095BD02 ,  2H095BD15 ,  2H095BD16 ,  2H095BD25 ,  2H095BD28
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (12件)
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