特許
J-GLOBAL ID：200903004632643510
リソグラフィ露光装置における汚染検出および監視のための方法およびシステム、ならびに調整された雰囲気条件下でのその動作方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
鈴木 正剛
, 佐野 良太
, 村松 義人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-534658
公開番号（公開出願番号）：特表2008-515232
出願日： 2005年09月21日
公開日（公表日）： 2008年05月08日
要約：
クロマトグラフィおよび吸収分光法などの非常に効率的な検出法を使用して、1種類以上の汚染物質を特定することができ、その濃度を定量的に決定することができる。このようにして、堆積した無機塩の形で、レチクル、レンズなどの露光装置の重要な構成要素に対する悪影響を大きく低減することができ、プロセス性能を改善することができる。
請求項（抜粋）：
所定の波長範囲および露光量範囲の放射を与えるように構成された放射源110と、
チャンバ雰囲気を有する露光チャンバ120と、
前記露光チャンバ120に配置され、前記放射源から放射を受け、前記受けた放射を基板102上に結像するように構成された光学系130と、
前記チャンバ雰囲気中の少なくとも1種類の汚染物質を定量的に検出するように構成された検出システム140と、を備えた露光システム。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516F
, G03F7/20 521
, H01L21/30 531A
5F046AA22
, 5F046CB25
, 5F046DA04
, 5F046DA27
, 5F046DB03
, 5F046GA03
, 5F046GA07
, 5F046GA14
