特許
J-GLOBAL ID：200903004640966883
光学素子を含む物品及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-103350
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118257
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 局所的に著しく高屈折率化した領域を有する光学素子を提供する。【構成】 ガラスの少くとも一部を250°C又はそれ以下の温度において、H2又はD2 (H2 又はD2 の分圧は1気圧以上)に曝し、曝された部分の少くとも一部に、化学的作用の放射線(典型的な場合UV)を照射する処理により、たとえば高シリカガラスのように酸化物ガラス中に、予測されないほど大きな規格化屈折率変化(Δ>10-5、しかし恐らく10-3よりも大きい)が得られる。その方法はたとえば光導波路中のイン-ライン屈折率、プレーナ光導波路又は位相回折格子のような高屈折率の領域(又は複数の領域)を含む光学素子の作製に使用できる。
請求項（抜粋）：
a)酸化物ガラスを含む基体を準備する工程、b)ガラスの少くとも一部を、H2 及びD2 から成るグループから選択された“高感度化”ガスと称するガスを含む雰囲気に接触させる工程、c)ガラスの前記部分の少くとも一部を、化学的作用放射線に曝すことにより、該曝された部分の屈折率が変化させる工程を含む光素子を含む物品の製造方法において、d)前記工程b)は前記ガラスを、250°C又はそれ以下の温度において、1気圧以上の分圧の高感度化ガスを含む雰囲気に接触させ、前記放射線照射により少くとも10-5の規格化屈折率変化(Δ)を生じるようにすることを特徴とする光学素子を含む物品の製造方法。
IPC (5件)：
G02B 6/12
, C03B 20/00
, G02B 6/00 356
, G02B 6/16
, H01L 21/00
