特許

J-GLOBAL ID：200903004644765653

エッチングマスクの形成方法及び装置

発明者： 川井 若浩 ,  酒井 由紀
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 飯塚 信市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110129
公開番号（公開出願番号）：特開平10-280170
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】 エッチング処理時に不利となる欠陥がエッチングマスク内に存在してしまう事態を未然に防止し、精密な細線パターンを金属表面上に形成可能にすること。【解決手段】 エッチングマスクのパターンに相当する原画を用意するステップと、前記原画を電子写真技術を用いてトナー像に変換するステップと、前記トナー像をエッチング対象となる金属の表面上に転写するステップと、を有する。

請求項（抜粋）：

エッチングマスクのパターンに相当する原画を用意するステップと、前記原画を電子写真法を用いてトナー像に変換するステップと、前記トナー像をエッチング対象となる金属の表面に転写するステップと、を有することを特徴とするエッチングマスクの形成方法。

IPC (3件)：

C23F 1/00 102 ,  G03G 13/00 ,  H05K 3/06

FI (3件)：

C23F 1/00 102 ,  G03G 13/00 ,  H05K 3/06 F