特許
J-GLOBAL ID：200903004650995415
珪素を含む炭素被膜およびその作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鴨田 朝雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093787
公開番号（公開出願番号）：特開平6-101047
出願日： 1981年09月07日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】 珪素を含み、硬さや熱伝導率を高くした炭素被膜を提供する。【構成】 炭素を主成分とし、30原子%以下の珪素を含む炭素被膜および反応空間内に珪素を一部に含んだ炭化水素を導入し、プラズマエネルギを導入することにより、30原子%以下の珪素を含む炭素被膜を作製することを特徴とする炭素被膜作成方法。
請求項（抜粋）：
炭素を主成分とし、30原子%以下の珪素を含む炭素被膜。
IPC (6件)：
C23C 16/32
, B41J 2/335
, C23C 16/26
, C30B 29/04
, H01L 21/205
, H01L 21/314
