特許

J-GLOBAL ID：200903004653602880

再生はんだ、再生はんだの製造方法、及びはんだ付け方法

発明者： 長沢 博幸 ,  羽生 和隆
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-145871
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340947
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】 ドロスの還元を効率的に且つ経済的に有利に行って得られる再生はんだ、及びその製造方法ならびにはんだ付け方法を提供すること。【解決手段】 溶融はんだ槽1からドロス2を排出し、このドロスを還元する工程を経て製造される再生はんだ。この再生はんだを同じ溶融はんだ槽1へ戻すことによって、同槽内のメルトの組成を初期とほぼ同じに近づけることができる。

請求項（抜粋）：

溶融はんだ槽から排出したドロスを還元して得られた再生はんだ。

IPC (4件)：

H05K 3/34 512 ,  H05K 3/34 ,  B23K 1/08 ,  C22B 7/04

FI (4件)：

H05K 3/34 512 Z ,  H05K 3/34 512 C ,  B23K 1/08 Z ,  C22B 7/04 A

Fターム (11件)：

4E080AA01 ,  4E080AA03 ,  4E080AB03 ,  4E080AB07 ,  4E080AB10 ,  4E080BA08 ,  4K001AA42 ,  4K001BA13 ,  4K001DB17 ,  5E319BB01 ,  5E319CC24