露光装置及び照度分布計測方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-092177
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284386
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】照明条件が変わっても、照度分布計測精度の照明条件間差をできるだけ小さくして、測定精度を向上させることを目的とする。【解決手段】露光用光源からの光束で転写用のパターンが形成されたマスク上の照明領域を照明する照明光学系を有し、マスクのパターンを基板上に露光する露光装置において、照明光学系の照明条件を変更する変更手段(5)と、光束の照射エネルギーを計測する第1の計測手段(7)と、基板上での照射エネルギーの照度分布を計測する第2の計測手段(19)と、照明光学系の照明条件を変更した際に光束の照射エネルギーに基づいて、第2の計測手段に入射する光束の照射エネルギーが予め設定された設定値となるように、基板上での照射エネルギーを制御する制御手段(3)と、を具備することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

露光用光源からの光束で転写用のパターンが形成されたマスク上の照明領域を照明する照明光学系を有し、前記マスクのパターンを前記基板上に露光する露光装置において、前記照明光学系の照明条件を変更する変更手段と、前記光束の照射エネルギーを計測する第1の計測手段と、前記基板上での照射エネルギーの照度分布を計測する第2の計測手段と、前記照明光学系の照明条件を変更した際に前記光束の照射エネルギーに基づいて、前記基板上での照射エネルギーを制御する制御手段と、を具備することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 527

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