基板の熱処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：間宮武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-168267
公開番号（公開出願番号）：特開平8-340007
出願日： 1995年06月09日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】熱処理炉内へ供給される複数種類のガスの混合比を正確に制御し、熱処理炉内を常に安定したガス雰囲気とすることができる装置を提供する。【構成】熱処理炉の炉本体10内のガス濃度を測定するガス濃度計56を設け、その測定結果に基づいて炉本体内へ供給される複数種類のガスの混合比が予め設定された混合比となるように流量調節弁48、50、52を調整し、ガス供給配管42、44、46を通して送給される各ガスの流量を調節する。

請求項（抜粋）：

被処理基板を収容する熱処理炉と、この熱処理炉内へ複数のガス供給源からそれぞれ異なった種類のガスを予め設定された混合比で供給するガス供給手段とを備えた基板の熱処理装置において、前記ガス供給手段に、ガスの流量を調節する流量調節手段を設け、前記熱処理炉内へ供給される複数種類のガスの混合比を、ガス濃度を測定して検出する混合比検出手段を設けるとともに、前記混合比検出手段による検出結果に基づいて、前記熱処理炉内へ供給される複数種類のガスの混合比が予め設定された混合比となるように前記ガス供給手段の前記流量調節手段を制御する制御手段を設けたことを特徴とする基板の熱処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/324 , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H01L 21/26 , H01L 21/31

FI (5件)：

H01L 21/324 D , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H01L 21/31 B , H01L 21/26 L

引用特許：

審査官引用 (6件)

レ-ザアニ-リング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-176738 出願人：工業技術院長, 株式会社東芝
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-334261 出願人：大見忠弘
特開平1-205517

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