特許

J-GLOBAL ID：200903004683990494

熱処理装置

発明者： 大沢 哲
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-272074
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097370
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の表面に高いエネルギー密度の光を照射することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】 処理容器4内の載置台8上に載置台された被処理体Wを加熱して所定の熱処理を施す熱処理装置において、光を放射する発光源38と、この発光源からの光を前記被処理体の表面に集光させる反射ミラー手段40と、前記集光された光を前記被処理体の表面上に相対的に走査させる走査手段58とを備えるように構成する。これにより、被処理体の表面に高いエネルギー密度の光を照射し、被処理体の表面のみに迅速に熱処理を施す。

請求項（抜粋）：

処理容器内の載置台上に載置された被処理体を加熱して所定の熱処理を施す熱処理装置において、光を放射する発光源と、この発光源からの光を前記被処理体の表面に集光させる反射ミラー手段と、前記集光された光を前記被処理体の表面上に相対的に走査させる走査手段とを備えたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/26 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501

FI (3件)：

H01L 21/26 G ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 L