特許
J-GLOBAL ID：200903004698103150
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-000720
公開番号（公開出願番号）：特開平8-186101
出願日： 1995年01月06日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：
【要約】【目的】 スペースをとらずに反応チャンバのベースの接地を確実にする。【構成】 反応チャンバ34をエアシリンダ42にて昇降可能とし、接地された載置台31の周縁部全方位の環状領域に、ベース部材48に対して離接自在に接続する環状接続子54を設け、環状接続子54を、載置台31の表面から突出させ、突出方向に対して弾性を有せしめる。反応チャンバの降下時には、環状接続子54をベース部材48に圧着してベース部材48と載置台31の接続させ、接地を確実にする。
請求項（抜粋）：
プラズマを発生させてウェハに所定の処理を行うものであって、前記ウェハを載置するための接地された載置台と、下面開放とされ所定のガスを導入するガス導入口および前記所定のガスを排出する排気口を有する反応チャンバと、前記反応チャンバの前記ガス導入口へ前記所定のガスを供給するガス供給手段と、前記反応チャンバの前記排気口から前記所定のガスを真空排気して反応チャンバ内を所望の低圧力に保つ真空排気手段と、前記反応チャンバおよび前記載置台の少なくとも一方を相対的に離接自在に昇降させる昇降手段と、前記反応チャンバの前記ガス導入口から導入される前記所定のガスの分子を電離させプラズマ状態にするための高周波用電極および接地用電極と、前記反応チャンバの下部の周縁部全方位の環状領域に配置されるベース部材と、前記ベース部材および前記載置台の少なくとも一方の周縁部全方位の環状領域に設けられ、他方に対して離接自在に接続する環状接続子とを備え、前記環状接続子は、前記ベース部材および前記載置台の少なくとも一方の表面から他方に向けて突出して取り付けられ、かつ突出方向に対して弾性を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, H01L 21/302 H
