特許
J-GLOBAL ID：200903004711544799
洗浄方法および洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-077525
公開番号（公開出願番号）：特開平7-284739
出願日： 1994年04月15日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】【目的】 洗浄後の洗浄媒質から溶解性汚染物質を完全に除去し、さらにより粒子サイズの小さな微粒子を除去することによって、被洗浄物の清浄度を向上することができる洗浄方法および洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄装置21は、洗浄室22、気化室23、液化室24、タンク25、加熱器26、圧力変換器27、フィルタ28、バルブV1〜V4、ポンプP1,P2、逆止弁W1,W2、および管L1〜L4を含んで構成される。洗浄室22では、被洗浄物31が超臨界状態の二酸化炭素32によって洗浄される。気化室23では、超臨界状態の二酸化炭素が気体状態に変化される。フィルタ28では、気化室23から液化室24に移送される気体状態の二酸化炭素が濾過される。液化室24で気体状態から液体状態に変化された二酸化炭素は、ポンプP2によって昇圧され、加熱器26によって加熱されて液体状態から超臨界状態になる。
請求項（抜粋）：
洗浄媒質を超臨界状態にして被洗浄物の洗浄を行い、前記洗浄媒質を循環させて使用する洗浄方法において、洗浄後の前記洗浄媒質を超臨界状態から気体状態にすることによって洗浄媒質に溶解した溶解性汚染物質の除去を行うことを特徴とする洗浄方法。
IPC (3件)：
B08B 3/10
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
