特許
J-GLOBAL ID：200903004714895690
薄膜パターンの不良箇所修正方法および薄膜パターンの形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-099491
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308317
出願日： 1993年04月26日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 カラーフィルタを歩留まり良く且つ低コストで製造することができる方法を提供する。【構成】 エキシマレーザ8を、基板1上に付着した異物3又は薄膜パターン2上に付着した異物4に照射することにより異物3,4のみを基板1又は薄膜パターン2にダメージを与えることなく除去できる。薄膜パターン2中に異物5が混入したり、薄膜パターン2にピンホール6やキズ7が生じたりしている場合には、異物5、ピンホール6又はキズ7及びそれらの周囲にエキシマレーザ8を照射することにより薄膜パターン2におけるエキシマレーザ8が照射された部分のみを除去できる。そして、基板1上における薄膜パターン2が除去された部分にのみ新たな薄膜パターン9を形成する。
請求項（抜粋）：
基板上の不良箇所又は基板上に形成された薄膜パターンの不良箇所にエキシマレーザを照射することにより上記不良箇所を除去する工程を備えていることを特徴とする薄膜パターンの不良箇所修正方法。
IPC (3件)：
G02B 5/20 101
, G01N 21/88
, G02F 1/13 101
