特許

J-GLOBAL ID：200903004716873359

イオン注入装置における汚染された表面を洗浄するための方法および装置

発明者： ジェームズ デビッド バーンスタイン ,  ピーター ミルティアディス コパリディス ,  ブリアン スコット フリーア
出願人/特許権者： イートン コーポレーション
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-135932
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003154
出願日： 2000年05月09日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】イオン注入装置の汚染された表面を洗浄して汚染物質を取り除くようにした装置および方法を提供すること。【解決手段】真空室の表面から汚染物質を洗浄するために、(a)反応種の構成要素を有するイオンビーム44を発生し、(b)このイオンビームを洗浄される表面に向けて指向し、(c)イオンビーム44が中和ガスの分子と衝突し、イオンビームと中和ガス分子との間の電荷交換反応の結果として、反応種の活性的な反応中性原子のイオンビームを作り出すような中和ガス70を、真空室内の洗浄される表面の近くに導くことによってイオンビームを中和し、(d)反応種の活性的な反応中性原子が汚染物質と反応して、反応生成物を作ることによって前記表面を洗浄し、(e)洗浄工程から生じる揮発性の反応生成物を真空室67から取り除くための手段を含んでいる。

請求項（抜粋）：

真空室の表面から汚染物質を洗浄する方法であって、(a)反応種の構成要素を有するイオンビーム(44)を発生し、(b)このイオンビームを洗浄される表面(100)に向けて指向し、(c)イオンビーム(44)が中和ガスの分子と衝突し、イオンビームと中和ガス分子との間の電荷交換反応の結果として、反応種の活性的な反応中性原子のイオンビームを作り出すような中和ガス(7 0)を、真空室内の洗浄される表面の近くに導くことによってイオンビームを中和し、(d)前記反応種の活性的な反応中性原子が汚染物質と反応して、反応生成物を作ることによって前記表面(100)を洗浄し、(e)洗浄工程から生じる揮発性の反応生成物を前記真空室から取り除く各工程を含むことを特徴とする洗浄方法。

IPC (3件)：

C23C 14/00 ,  H01L 21/265 603 ,  H01L 21/265

FI (4件)：

C23C 14/00 B ,  H01L 21/265 603 A ,  H01L 21/265 603 D ,  H01L 21/265 603 C