特許

J-GLOBAL ID：200903004726058432

1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法

発明者： 伊藤 博 ,  吉田 安久 ,  中澤 幹郎
出願人/特許権者： 新日本理化株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-220499
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045646
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【目的】 銅-クロム触媒の耐久性を向上させることにより、生産性に優れ、工業的に実用性のある1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造プロセスを確立する。【構成】 固定床連続反応を適用し、テレフタル酸ジアルキルをルテニウム担持成型触媒の存在下に核水素化して1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルを得、次いで、得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルを銅-クロム成型触媒の存在下に水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造するに際し、銅-クロム成型触媒として、その比表面積が10m2/g以上であって、20m2/g未満である銅-クロム成型触媒を適用する。テレフタル酸ジアルキルとしては、テレフタル酸ジメチルが推奨される。

請求項（抜粋）：

固定床連続反応を適用し、テレフタル酸ジアルキルをルテニウム担持成型触媒の存在下に核水素化して1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルを得、次いで、得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルを銅-クロム成型触媒の存在下に水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造するに際し、銅-クロム成型触媒の比表面積が10m2/g以上であって、20m2/g未満であることを特徴とする1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 31/27 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/86 ,  C07C 29/149 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 31/27 ,  B01J 23/46 301 Z ,  B01J 23/86 Z ,  C07C 29/149 ,  C07B 61/00 300