特許

J-GLOBAL ID：200903004727943898

ガス処理方法及びガス処理装置

発明者： 加藤 利明
出願人/特許権者： 樫山工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-295982
公開番号（公開出願番号）：特開2002-102649
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月09日
要約：

【要約】【課題】 プロセス等から排出される有害ガスなどを処理する際、動力をほとんど必要とせず、処理液の使用を最低限に抑えた上で、処理効率を向上させることができるガス処理方法及びガス処理装置を提供する。【解決手段】 ガス吸収液または反応液を含み、かつ通気性を有するブロック状の多孔質体に被処理ガスを通過させる。ブロック状の多孔質体自体に通気路を設けてもよく、ブロック状の多孔質体として、用いるガス吸収液または反応液に対して親和性を有するものを使用し、前記ガス吸収液または反応液の新液を、被処理ガスの排気側からブロック状の多孔質体に供給し、ガス導入側から処理済の液を排出する。

請求項（抜粋）：

ガス吸収液または反応液を含み、かつ通気性を有するブロック状の多孔質体に被処理ガスを通過させることを特徴とするガス処理方法。

IPC (4件)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (4件)：

B01D 53/18 C ,  B01D 53/34 134 B ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 D

Fターム (25件)：

4D002AA18 ,  4D002AA19 ,  4D002AA23 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002BA20 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA02 ,  4D002DA12 ,  4D002DA32 ,  4D002DA35 ,  4D002DA41 ,  4D002HA02 ,  4D002HA03 ,  4D002HA08 ,  4D020AA10 ,  4D020BA01 ,  4D020BA08 ,  4D020BA23 ,  4D020BB07 ,  4D020CB17 ,  4D020CB25 ,  4D020CC08 ,  4D020CC13