特許

J-GLOBAL ID：200903004745682988

X線マスクの製造方法及び製造装置

発明者： 山部 正樹
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-039374
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232216
出願日： 1996年02月27日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】 X線マスク基板上に吸収体膜を形成したものから成るX線マスクの製造方法及び製造装置に関し、吸収体膜の応力を簡易な手段で低減することを目的とする。【解決手段】 吸収体膜の面内における応力分布を測定し、この応力分布に応じて該吸収体膜を局所的にアニールするように構成する。

請求項（抜粋）：

X線マスク基板上に吸収体膜を形成したものから成るX線マスクの製造方法において、吸収体膜の面内における応力分布を測定し、該応力分布に応じて該吸収体膜を局所的にアニールすることを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X