特許

J-GLOBAL ID：200903004756957296

位置検出装置及び該装置を備えた露光装置

発明者： 中川 正弘 ,  小松 宏一郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027517
公開番号（公開出願番号）：特開平9-223651
出願日： 1996年02月15日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【課題】 LIA方式のアライメントセンサにおけるベースライン変動を低減する。【解決手段】 参照マーク35Y1,35Y2がウエハ2に対向する面に形成された落射プリズム34、第1対物レンズ33、及び偏心指標マーク31Yが形成された指標板32等を、ヘテロダインビーム発生系HDBを含む照明光学系が設置されたセンサ本体部11aから分離された指標対物部11bのケーシング13内に設置する。ヘテロダインビーム発生系から射出された周波数の異なる2つの照明光YLB1,YLB2をウエハマーク38Y及び参照マーク35Y1,35Y2に照射し、ウエハマーク検出光YWLB、及び偏心指標マーク31Yにより合成された参照マーク検出光YLGをそれぞれ光電変換素子43Y,42Yで受光して、得られる2つのビート信号に基づいてウエハマークと参照マークとの位置ずれ量を検出する。

請求項（抜粋）：

被検物上に形成された位置検出マークに可干渉な照明光を照射する照射光学系と、前記位置検出マークからの回折光を集光する集光光学系と、該集光光学系により集光された回折光を光電変換する光電検出手段とを有し、該光電検出手段からの検出信号に基づいて前記位置検出マークの位置を検出する位置検出装置において、前記被検物と前記集光光学系との間に配置され、所定の基準マークが形成された基準体と、前記基準マークからの複数の回折光を合成する合成光学部材と、前記光電検出手段を第1の光電検出手段としたとき、前記基準マークから発生した複数の回折光を、前記合成光学部材及び前記集光光学系を介して受光して光電変換する第2の光電検出手段と、を備え、前記第1及び第2の光電検出手段からの検出信号に基づいて、前記基準マークに対する前記位置検出マークの相対位置を検出することを特徴とする位置検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 525 E ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H