露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144575
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015866
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】特に大型の基板を露光処理するにあたり、フォトマスクおよび基板が自重によって撓むことを抑制しながら、安全に基板を保持できるようにする。【構成】基板3を保持する基板保持板4の板面およびフォトマスク7を、垂直面に対して、角度2度ないし15度の範囲で、上方向に傾斜させる。また、基板3の下端部に接する位置において基板保持板4の板面に対して直角方向に移動可能なストッパ6を設ける。

請求項（抜粋）：

感光材が表面に付された基板に接触または接近して配置されたフォトマスクを通して、光線を前記基板に照射することによって、前記フォトマスクのパターンを前記基板に転写する、露光装置において、前記光線の光軸が前記基板を保持する基板保持板面および前記フォトマスクに対して直角とされながら、前記基板保持板面および前記フォトマスクが、垂直面に対して、角度2度ないし15度の範囲で、上方向に傾斜していることを特徴とする、露光装置。

IPC (4件)：

G03F 7/20 , G02F 1/13 101 , H05K 3/00 , H05K 3/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭57-010146
特開昭57-068836
特開昭57-010146

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