露光用マスク現像処理方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-082333
公開番号（公開出願番号）：特開2002-278042
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。【解決手段】露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。

請求項（抜粋）：

露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , G03C 8/32 , G03F 1/12 , G03F 7/26 501 , G03F 7/30

FI (5件)：

G03F 1/08 A , G03C 8/32 , G03F 1/12 , G03F 7/26 501 , G03F 7/30

Fターム (10件)：

2H095BA11 , 2H095BB31 , 2H095BC06 , 2H096AA00 , 2H096AA24 , 2H096BA17 , 2H096EA02 , 2H096GA08 , 2H096GA22 , 2H096GA24

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