特許
J-GLOBAL ID：200903004793290846

原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法

発明者：
村上 一男

村上 一男 について

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大里 哲夫

大里 哲夫 について

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市川 長佳

市川 長佳 について

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逸見 幸雄

逸見 幸雄 について

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高木 純一

高木 純一 について

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四柳 端

四柳 端 について

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岡村 雅人

岡村 雅人 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 猪股 祥晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-340143
公開番号（公開出願番号）：特開2003-139891
出願日： 2001年11月06日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】原子炉冷却水の水質基準および管理目標値に対応した光触媒皮膜を原子炉構造材料面に均一に形成し、原子炉運転中の腐食を低減する。【解決手段】溶液中に含有する光触媒の粒径、濃度、光触媒助剤濃度、分散剤とバインダーの割合、不純物濃度を制御する。光触媒はTiO2で、その皮膜の厚みを0.3μmから2μmに制御する。2μm以上になると酸化チタンにおいて光触媒反応で励起した電子と正孔が再結合反応し、材料の電位は徐々に上昇し、0.3μmを下回ると粒界応力腐食割れ防止を抑制するので望ましくない。
請求項（抜粋）：
原子炉構造材料に光触媒を構成する成分を注入して前記原子炉構造材料に前記光触媒の皮膜を形成する方法において、前記注入する光触媒の粒径、前記光触媒の薬剤に含まれる分散剤、バインダーおよび不純物の割合を規定し、原子炉水への注入の場合には前記原子炉水中での光触媒の濃度を制御するか、または塗布、噴霧法により注入の場合には塗布、噴霧溶液中での光触媒の濃度を制御することを特徴とする原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法。
IPC (9件)：
G21D 3/08 GDB ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/46 311 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C23F 11/18 ,  C23F 15/00 ,  G21D 1/00
FI (9件)：
G21D 3/08 GDB G ,  B01J 21/06 M ,  B01J 23/42 M ,  B01J 23/46 311 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 Z ,  C23F 11/18 ,  C23F 15/00 ,  G21D 1/00 X
Fターム (44件)：
4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BB01C ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069BD01C ,  4G069BD06C ,  4G069BE08C ,  4G069CD10 ,  4G069EA07 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069FA03 ,  4G069FA04 ,  4G069FB06 ,  4G069FB23 ,  4G069FB24 ,  4G069FB77 ,  4G069FC04 ,  4G069FC08 ,  4K062AA01 ,  4K062AA03 ,  4K062BA14 ,  4K062BA20 ,  4K062BB04 ,  4K062BB06 ,  4K062BB12 ,  4K062BC16 ,  4K062CA02 ,  4K062CA05 ,  4K062DA05 ,  4K062FA20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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