特許

J-GLOBAL ID：200903004804763520

光酸化処理法に使用した触媒微粒子の洗浄・再生方法

発明者： 山形 光二
出願人/特許権者： ライザー工業株式会社
代理人 (1件)： 田中 昭雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-346926
公開番号（公開出願番号）：特開平7-185340
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【構成】被処理水中に触媒微粒子を懸濁させ、紫外線を照射して被処理水の有機物分解乃至殺菌処理を行った後、洗浄槽1中に使用した触媒微粒子12と洗浄水を加え、散気板6からオゾン乃至エアー曝気しながら触媒微粒子12を洗浄する光酸化処理法に使用する触媒微粒子の洗浄・再生方法。【効果】光酸化処理法に使用した触媒微粒子表面の錯体等の付着物を二次公害を起こすことなく、剥離除去することができ、また高価な二酸化チタン等の触媒粒子を繰り返して再利用できるため、光酸化処理法にコスト低減に大きな貢献をすることができる。

請求項（抜粋）：

被処理水中に触媒微粒子を懸濁させ、紫外線を照射して被処理水の有機物分解乃至殺菌処理を行った後、使用した触媒微粒子を洗浄水中でオゾン乃至エアー曝気しながら洗浄することを特徴とする光酸化処理法に使用した触媒微粒子の洗浄・再生方法。

IPC (5件)：

B01J 21/20 ZAB ,  B01J 35/02 ZAB ,  B01J 38/70 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭54-094487
  
• 特開昭64-080444