特許
J-GLOBAL ID：200903004815020279
ホトマスクおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-046691
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261367
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 ホトマスクに関し、高解像度のパターンが得られるようなホトマスクおよびその製造方法を目的とする。【構成】 透明基板1上にホトレジスト膜の露光光の半透過性膜5と、前記光の位相をシフトさせる位相シフト膜2と、前記露光光の遮光膜3を順次設け、該遮光膜3の開口部4の面積を、半透過性膜5および位相シフト膜2の開口部4の面積より大きくしたことで構成する。
請求項（抜粋）：
透明基板(1) 上にホトレジスト膜の露光光の半透過性膜(5)と、前記光の位相をシフトさせる位相シフト膜(2) と、前記露光光の遮光膜(3)を順次設け、該遮光膜(3) の開口部(4) の面積を、半透過性膜(5) および位相シフト膜(2) の開口部(4) の面積より大きくしたことを特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
