特許
J-GLOBAL ID:200903004817114637

半導体素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-237468
公開番号(公開出願番号):特開平9-083079
出願日: 1995年09月14日
公開日(公表日): 1997年03月28日
要約:
【要約】【課題】動作電圧の低い半導体素子を提供する。【解決手段】n型GaAs半導体基板(11)、及びこの半導体基板(11)上に形成されたバッファ層(12)を有する。バッファ層(12)は1×108 cm-2以上の欠陥密度を有する。
請求項(抜粋):
半導体基板、及びこの半導体基板上に形成された半導体層を有し、前記半導体層は少なくとも部分的に1×108 cm-2以上の欠陥密度を有することを特徴とする半導体素子。
IPC (2件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00
FI (2件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 A

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