特許
J-GLOBAL ID:200903004825715399

改良された水素および二酸化炭素の同時生成

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 川口 義雄 ,  一入 章夫 ,  小野 誠 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-567436
公開番号(公開出願番号):特表2004-519538
出願日: 2001年12月18日
公開日(公表日): 2004年07月02日
要約:
ガス生成プラント100は、供給ガス120を受けて、第1のオフガス流132と第1の生成物流134とを生成する第1の分離器130と、第1のオフガス流132を受けて、第2の生成物流142と第2のオフガス流144とを生成する第2の分離器140とを有している。液化装置150は、第1の生成物流134の少なくとも一部と第2のオフガス流144の少なくとも一部とを受けて、第3の生成物流154と第3のオフガス流とを生成する。第3のオフガス流の第1の部分152Aは、第1のオフガス流132と混合され、第3のオフガス流の第2の部分152Bは、非排ガスとして使用される。ガス生成プラント100の作動方法においては、PSA装置が第2の分離器140として使用され、このPSA装置を用いて、第2の生成物流142として水素が収集されるとともに、取り除かれたガスが第2のオフガス流144として排出される。
請求項(抜粋):
第1のガス成分および第2のガス成分を有する供給ガス流を供給するガス源と、 前記ガス源に流体的に接続されるとともに、前記第1のガス成分の少なくとも一部を前記供給ガス流から除去することにより、第1のオフガス流と、主に前記第1のガス成分を含む第1の生成物流とを生成する第1の分離器と、 前記第1の分離器に流体的に接続されるとともに、前記第2のガス成分の少なくとも一部を前記第1のオフガス流から除去することにより、第2のオフガス流と、主に前記第2のガス成分を含む第2の生成物流とを生成する第2の分離器と、 前記第1および第2の分離器に流体的に接続されるとともに、前記第1の生成物流の少なくとも一部と前記第2のオフガス流の少なくとも一部とを受けて、主に液化された第1のガス成分を含む第3の生成物流を生成する液化装置とを含み、 液化装置が第3のオフガス流を生成し、前記第3のオフガス流の第1の部分が前記第1のオフガス流と混合され、前記第3のオフガス流の第2の部分が非排ガスとして使用されるガス生成プラント。
IPC (7件):
C10K1/16 ,  B01D5/00 ,  B01D53/14 ,  C01B3/38 ,  C01B3/50 ,  C01B31/20 ,  C10K1/32
FI (7件):
C10K1/16 ,  B01D5/00 Z ,  B01D53/14 102 ,  C01B3/38 ,  C01B3/50 ,  C01B31/20 C ,  C10K1/32
Fターム (24件):
4D020AA03 ,  4D020BA16 ,  4D020BA19 ,  4D020BB04 ,  4D020CB40 ,  4D020CD03 ,  4D020CD10 ,  4D076AA15 ,  4D076BC00 ,  4D076FA00 ,  4D076FA15 ,  4G140EB37 ,  4G140EB42 ,  4G146JA04 ,  4G146JB09 ,  4G146JC10 ,  4H060AA01 ,  4H060BB04 ,  4H060BB08 ,  4H060BB22 ,  4H060BB23 ,  4H060DD02 ,  4H060FF04 ,  4H060GG01

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