特許
J-GLOBAL ID:200903004827877647
硝化グラニュールの形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 秀和 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-070011
公開番号(公開出願番号):特開2003-266095
出願日: 2002年03月14日
公開日(公表日): 2003年09月24日
要約:
【要約】【課題】 自己固定化法により、強度、沈降性およびNH4+-N除去速度に優れた硝化グラニュールを形成することを目的とする。【解決手段】 硝化細菌を含む汚泥と、無機性アンモニア含有水溶液とを、上向流好気性条件下、反応槽内にて連続的に接触させることを特徴とする硝化グラニュールの形成方法により課題を解決した。
請求項(抜粋):
硝化細菌を含む汚泥と、無機性アンモニア含有水溶液とを、上向流好気性条件下、反応槽内にて連続的に接触させることを特徴とする硝化グラニュールの形成方法。
Fターム (3件):
4D040BB07
, 4D040BB42
, 4D040BB91
引用特許: