特許

J-GLOBAL ID：200903004833164393

紫外線処理装置

発明者： 細谷 浩二 ,  長谷川 豊
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
代理人 (1件)： 河▲崎▼ 眞樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-091101
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286251
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 より均一な処理の可能な紫外線処理装置を提供する。【解決手段】 オゾン発生器と該オゾン発生器に接続されオゾン含有ガス吐出口に接続されたオゾン含有ガス供給管と該オゾン含有ガス供給管に接続された希釈ガス導入管とを備えてなるガス調整手段により、異なるオゾン含有ガス吐出口からのガス吐出量または吐出ガス濃度をオゾン含有ガス吐出口に応じて別々に調整する。

請求項（抜粋）：

紫外線ランプと複数のオゾン含有ガス吐出口を備え、紫外線とオゾンの作用により被処理物表面の処理を行う紫外線処理装置であって、異なるオゾン含有ガス吐出口からのガス吐出量または吐出ガス濃度をオゾン含有ガス吐出口に応じて別々に調整するガス調整手段を備えていることを特徴とする紫外線処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/12 ,  H01L 21/316 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  B01J 19/12 G ,  H01L 21/316 P ,  H01L 27/10 651

Fターム (34件)：

4G075AA24 ,  4G075BA06 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AC15 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EC01 ,  5F045EE12 ,  5F045EE13 ,  5F045EE17 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EF09 ,  5F045EK07 ,  5F045EK12 ,  5F045EK19 ,  5F045GB13 ,  5F058BA06 ,  5F058BC02 ,  5F058BF62 ,  5F058BF78 ,  5F058BJ01 ,  5F083AD21 ,  5F083GA21 ,  5F083GA27 ,  5F083GA30 ,  5F083JA02 ,  5F083PR12