特許
J-GLOBAL ID:200903004854899130

電子ビーム加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-277665
公開番号(公開出願番号):特開平8-132256
出願日: 1994年11月11日
公開日(公表日): 1996年05月28日
要約:
【要約】【目的】 加工室の容積を小さくすることにより、真空排気時間を短縮して電子ビーム加工を行う。【構成】 加工室18の開口部18aと被加工物8との間をシール部材19により回転自在に真空保持して両被加工物8、9の結合部10を加工室18内に収納すると共に被加工部8の結合部10と反対側の端部、治具テーブル20及び回転駆動手段11を加工室18の外部に露出した状態で、排気手段13により加工室18内を真空排気する。従って、加工室18の容積を従来より大幅に小さくすることが可能となり、真空排気時間を短縮することができる。
請求項(抜粋):
断面が円形状で端部を結合した第1の被加工物と第2の被加工物との結合部を収納すると共に上記第1の被加工物の上記結合部と反対側の端部が外部に露出するように貫通可能な開口部を有する加工室、上記開口部と上記第1の被加工物との間を回転自在に真空保持するシール部材、上記両被加工物を回転させる回転駆動機構、上記加工室の内部を真空排気する排気手段及び上記両被加工物の結合部に電子ビームを照射する電子ビーム発生手段を備えたことを特徴とする電子ビーム加工装置。

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